時間：2020年6月27-29日

地點(diǎn)：北京國家會議中心

會議網(wǎng)址：

https://www.csoe.org.cn/meeting/AOPC2020/

由中國光學(xué)工程學(xué)會（CSOE）與國際光學(xué)工程學(xué)會（SPIE）共同主辦“第9屆國際應(yīng)用光學(xué)與光子學(xué)技術(shù)交流會（AOPC2020）”定于2020年6月27-29日在北京國家會議中心舉辦。AOPC2020是中國光學(xué)工程學(xué)會年會，本屆大會設(shè)有20余個專題分會，規(guī)模近兩千人。組委會力邀350余位國內(nèi)外著名科學(xué)家、學(xué)術(shù)領(lǐng)軍專家出席并做精彩報告。大會開幕式舉辦中國光學(xué)工程學(xué)會第五屆光學(xué)工程優(yōu)博和第六屆科技創(chuàng)新獎頒獎盛典！

當(dāng)今社會是信息化社會，光電探測與成像技術(shù)是現(xiàn)代信息獲取的主要手段之一，是支撐信息化社會發(fā)展的核心技術(shù)。隨著光電探測和成像技術(shù)的迅猛發(fā)展，其在軍事和民用領(lǐng)域占有越來越重要的地位，引起了業(yè)內(nèi)人士的普遍關(guān)注。本專題將深入探討近年來光電探測與成像技術(shù)領(lǐng)域所取得的最新研究成果，促進(jìn)國際光電探測與成像技術(shù)及相關(guān)產(chǎn)業(yè)的可持續(xù)、健康發(fā)展。

大會征文已開通，歡迎廣大科研人員、研究生、博士生積極投稿參與會議交流！通過評審的稿件將在SPIE文集（EI檢索）正式發(fā)表，優(yōu)秀稿件將推薦到SCI期刊和EI期刊發(fā)表。本屆大會組委會將評選優(yōu)秀青年論文獎，獲獎作者頒發(fā)榮譽(yù)證書和獎勵。

主辦單位

中國光學(xué)工程學(xué)會（CSOE）

SPIE

承辦單位

中國光學(xué)工程學(xué)會（CSOE）

微光夜視技術(shù)重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室

天津津航技術(shù)物理研究所

天津市紅外成像工程中心

紅外與微光技術(shù)應(yīng)用產(chǎn)業(yè)聯(lián)盟

國際激光技術(shù)產(chǎn)業(yè)及應(yīng)用協(xié)同創(chuàng)新聯(lián)盟

聯(lián)辦單位（更新中）

電子科技大學(xué)

北京理工大學(xué)

南京理工大學(xué)

浙江大學(xué)光電科學(xué)與工程學(xué)院

試驗(yàn)物理與計算數(shù)學(xué)國家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室

北京仿真中心航天系統(tǒng)仿真重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室

江蘇省光譜成像與智能感知重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室

紅外探測器技術(shù)航空科技重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室

復(fù)雜產(chǎn)品智能制造系統(tǒng)技術(shù)國家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室

光電成像技術(shù)與系統(tǒng)教育部重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室

光學(xué)輻射重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室

電磁散射重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室

江蘇省光學(xué)學(xué)會

專題主席

羅先剛 院士    (中國科學(xué)院光電技術(shù)研究所)
蔣亞東 教授    (電子科技大學(xué))專題共主席
劉東    教授    (浙江大學(xué))

征文方向

Ultra-violet, visible and infrared sensing and imaging
Millimeter, sub-millimeter, and far-infrared detectors and instrumentation
Novel lidar technology
Novel imaging technology (including computional imaging, microscopic imaging, 3D imaging, etc)
Environment characteristics of target and atmospheric transmission
Ocean optics and detection technology
Combination of active and passive optical sensing
Machine vision, automatic target detection, image processing & analysis
Other related technologies

發(fā)表須知

會議論文集由SPIE正式出版，EI核心收錄。作者請登陸投稿網(wǎng)站先提交英文摘要（不少于500單詞），大會學(xué)術(shù)委員會審查后，組委會用郵件給作者發(fā)錄用通知。錄用通知根據(jù)提交摘要的前后順序發(fā)放。

      英文摘要截止：

      2020年5月6日（第二輪）

      評審為優(yōu)秀的稿件摘要，作者可按照組委會規(guī)定重新提交論文全文（中英文均可），組委會幫助推薦到指定SCI期刊或EI期刊復(fù)審。

      英文摘要投遞網(wǎng)址：

http://events.kjtxw.com/tougaoeng/AOPC2020.html

投稿時請選擇Topic11：光電探測與成像技術(shù)

支持期刊

PhotoniX

Journal of Electronic Imaging (SCI)

Journal of Applied Remote Sensing (SCI)

Optical Engineering (SCI)

Journal of Micro/Nanolithography

MEMS, and MOEMS (SCI)

Photonic Sensors (SCI)

Journal of Infrared and Millimeter Waves (SCI)

Infrared and Laser Engineering(EI)

Acta Photonica Sinica(EI)

International Journal of Extreme Manufacturing

SPIE Proceedings(EI), etc.

同期活動

第9屆國際應(yīng)用光學(xué)及光子學(xué)技術(shù)交流大會
2020年光電子產(chǎn)業(yè)博覽會（近3萬平米，4個館大型國際光電展）
2020年世界光子大會及產(chǎn)業(yè)發(fā)展高峰論壇、十幾個產(chǎn)業(yè)化分論壇
全球信息科技創(chuàng)新成果轉(zhuǎn)化對接大會
激光技術(shù)應(yīng)用解決方案大賽，等

組委會

劉艷

liuyan@csoe.org.cn

022-58168510